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In dieser Arbeit wird eine Bewertung der Passivierungskapazität von Graphen-Nanoschichten (NG) vorgeschlagen, die auf der Oberfläche von Kupfer-, Aluminium- und Eisenplatten durch Abscheidung mit organischen Lösungsmitteln mit niedrigem Siedepunkt adsorbiert werden. Dazu war es notwendig, Graphen experimentell durch chemische Exfoliation, ausgehend von pulverisiertem Graphit, herzustellen. Die Ablagerung von Graphen-Nanoschichten auf Metallen wurde mit der Adsorptionsmethode durchgeführt, wobei organische Lösungsmittel getestet wurden: Ethylacetat, Chloroform und Ethylether. Anschließend…mehr

Produktbeschreibung
In dieser Arbeit wird eine Bewertung der Passivierungskapazität von Graphen-Nanoschichten (NG) vorgeschlagen, die auf der Oberfläche von Kupfer-, Aluminium- und Eisenplatten durch Abscheidung mit organischen Lösungsmitteln mit niedrigem Siedepunkt adsorbiert werden. Dazu war es notwendig, Graphen experimentell durch chemische Exfoliation, ausgehend von pulverisiertem Graphit, herzustellen. Die Ablagerung von Graphen-Nanoschichten auf Metallen wurde mit der Adsorptionsmethode durchgeführt, wobei organische Lösungsmittel getestet wurden: Ethylacetat, Chloroform und Ethylether. Anschließend wurden Korrosionsangriffe mit 6mol/L Schwefelsäure und einem Oberflächenenthüllungsmittel für jedes untersuchte Metall simuliert (Kupfer: Lösung mit 5g Eisen-III-Chlorid, 30mL konzentrierter Salzsäure und 100mL destilliertem Wasser; Eisen: 10%ige alkoholische Salpetersäurelösung und Aluminium: 0,01mol/L Natriumhydroxidlösung). Der Korrosionstest bewertete auch den Einfluss der Temperatur auf die Fixierung der Graphen-Nanoschichten, indem einige beschichtete Metalle 30 Sekunden lang einer Temperatur von 1000 ºC ausgesetzt wurden.
Autorenporträt
Ingénieur chimiste (UNIFAE) avec un master en génie chimique (UNIFAL), un diplôme en chimie (UNIFRAN) et un technicien en chimie (ETEC Francisco Garcia).