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Pensato per studenti, ingegneri e professionisti, questo libro riunisce la teoria dell'elettrostatica e della strumentazione capacitiva per passare dal modello al dispositivo. Dopo aver trattato le basi (calcolo vettoriale, equazioni di Laplace/Poisson, condizioni al contorno, teorema di unicità), passa ai mezzi dielettrici, alla capacità, all'energia e alle forze (sollecitazione di Maxwell, effetti di bordo) e alle loro implicazioni progettuali. Una sezione consistente illustra i metodi numerici FDM/FEM/BEM: scelta delle simmetrie, mesh, criteri di convergenza, validazione sperimentale. Per…mehr

Produktbeschreibung
Pensato per studenti, ingegneri e professionisti, questo libro riunisce la teoria dell'elettrostatica e della strumentazione capacitiva per passare dal modello al dispositivo. Dopo aver trattato le basi (calcolo vettoriale, equazioni di Laplace/Poisson, condizioni al contorno, teorema di unicità), passa ai mezzi dielettrici, alla capacità, all'energia e alle forze (sollecitazione di Maxwell, effetti di bordo) e alle loro implicazioni progettuali. Una sezione consistente illustra i metodi numerici FDM/FEM/BEM: scelta delle simmetrie, mesh, criteri di convergenza, validazione sperimentale. Per quanto riguarda le misure, il libro tratta i misuratori LCR, i ponti di Schering, le tecniche di protezione, la schermatura e la messa a terra, la calibrazione e l'incertezza, con protocolli e fogli di calcolo passo-passo. Casi di studio (cavi coassiali, sensori capacitivi, interfacce tattili, strutture MOS/MEMS) mostrano come collegare geometria, permittività e prestazioni. Ogni capitolo comprende "ricette" di modellazione, liste di controllo di laboratorio ed esercizi corretti per aiutarvi a consolidare le vostre competenze. Progettato per scopi formativi e ingegneristici, il libro è finalizzato all'uso sicuro ed efficiente dei sistemi capacitivi.
Autorenporträt
Mohammed RASHEED, profesor i naukowiec w dziedzinie nauk stosowanych (Uniwersytet Technologiczny w Bagdadzie; Uniwersytet w Angers), zajmuje si¿ nanotechnologi¿, cienkimi warstwami, optyk¿, materiäami, ceramik¿, polimerami, laserami, modelowaniem i przetwarzaniem obrazu. Autor >220 artyku¿ów, >70 wspó¿prac w >10 krajach; recenzent >200 czasopism.