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Este livro foi concebido para servir de guia abrangente para estudantes, investigadores e profissionais que pretendam aprofundar os seus conhecimentos sobre investigação em engenharia e direitos de propriedade intelectual. Com base na minha experiência de ensino e investigação, concentrei-me em apresentar os conceitos fundamentais de uma forma clara e estruturada, começando pelos fundamentos da metodologia de investigação e da ética, passando pelas técnicas de revisão da literatura e, finalmente, explorando as áreas críticas das patentes, direitos de autor, marcas registadas e muito mais.O meu…mehr

Produktbeschreibung
Este livro foi concebido para servir de guia abrangente para estudantes, investigadores e profissionais que pretendam aprofundar os seus conhecimentos sobre investigação em engenharia e direitos de propriedade intelectual. Com base na minha experiência de ensino e investigação, concentrei-me em apresentar os conceitos fundamentais de uma forma clara e estruturada, começando pelos fundamentos da metodologia de investigação e da ética, passando pelas técnicas de revisão da literatura e, finalmente, explorando as áreas críticas das patentes, direitos de autor, marcas registadas e muito mais.O meu objetivo é fornecer aos leitores conhecimentos práticos que façam a ponte entre a teoria e a aplicação no mundo real, ajudando-os a conduzir a investigação de forma responsável e a proteger eficazmente as suas inovações. Quer esteja a iniciar o seu percurso de investigação ou a procurar melhorar os seus conhecimentos em propriedade intelectual, este livro pretende ser um recurso valioso para apoiar o seu crescimento académico e profissional.
Autorenporträt
Dr Shareefraza J. Ukkund, profesor nadzwyczajny biotechnologii w P.A. College of Engineering w Mangalore, ma ponad 11-letnie do¿wiadczenie w nauczaniu i badaniach w dziedzinie nanotechnologii i biotechnologii. Jest autorem ponad 25 artyku¿ów w czasopismach Elsevier, Springer, Taylor & Francis, ponad 10 podr¿czników i 6 rozdziäów ksi¿¿ek w Academic Press, Elsevier, Springer i CRC Press.